在本次大会上，河北凯诺中星科技有限公司 工学博士/教授/博士生导师 孙凤霞发表了题为《光刻胶材料、配方与后续制程的综合解决方案探讨》的演讲。
孙凤霞教授表示，集成电路的发展是衡量一个国家经济实力和科技水平的重要标志。它需要微电子学、物理学、化学、半导体、光学、精密机械等诸多学科的交叉。在2020年12月30日，国务院学位委员会、教育部正式发布了设置“交叉学科“门类，将“集成电路科学与工程” 和 “国家安全学”设为一级学科，加大培养该领域的专业人才。集成电路产业链涉及材料、工艺、设备等环节，从前端的制版、设计到最后的封装、测试芯片，经历了相当长的制造过程，光刻及光刻胶是目前卡脖子的重要一环，实际上在芯片制造上除了光刻还有许多环节都需要我们大力攻关。日本在高端光刻胶市场中占据着相当大的比例，国内目前有非常少量的供给，中国光刻胶产业的发展集中在近几年，尤其是2019年以后。
孙凤霞教授在光刻胶材料配方和后续工艺的探讨分享了三个方面。第一，建议要做基础研究。我们目前发表在国际上与光刻胶相关的高水平文章相对较少，从国家设置“集成电路科学与工程”为一级学科，基础研究开始大量进入这一领域，但对于产业而言也需要有人能沉下心来做基础研究。基础研究需要强大的资金投入，国内光刻胶产业目前相对集中在以民营企业为主，因此建议我们国家相关部委、央企、巨头企业多关注包括光刻胶在内的集成电路产业。2020年，孙凤霞教授和中科院化学所杨国强教授一同承担了国家自然基金重点项目“超高精细光刻胶结构设计及关键性能调控研究”。孙凤霞教授呼吁高校和企业及行业同胞们，继续加大这方面的投入。
第二，建议加大应用基础研究，尤其是关于配方和工艺基础相关的研究。目前大量的企业和资本进入了这个阶段，但仍然需要多部门、上下游产业链的团结协作。因为光刻胶属于技术密集、资金密集型产业。另外光刻胶种类多，化合物和材料的数量也随之增加，同时在配方和工艺细节上存在极大的难度。因此，孙凤霞教授认为在应用基础上，依旧任重道远。综上，孙凤霞教授认为基础研究必须成为前置或者是根本，需要后端的支持和上下游的协作。
第三，建议应用研究、应用基础和基础研究要协同发展。在产业端，孙教授PPT上 “厚重技术基础和严苛质量体系”。首先我们在硬科技上需要在产业基础建设及质量保障体系等关键环节上能做到执行到位。其次是行业需要全民共建并配合上下游产业链的协作，建议产业链一定要精准分工，分工越细越好。
在报告即将结束时，孙凤霞教授向在场的嘉宾们介绍了河北凯诺中星科技有限公司和目前的进展。河北凯诺中星科技有限公司目前拥有IC制程专用有机电子材料制造基地和超净高纯电子化学品制造实体和创新平台，同时也在进行下游相关的配方和工艺的基础研究。超净高纯有机电子材料材料最难的部分是金属离子的控制，同时也需要化工领域的清洁生产才能很好的生存。她以材料产业为例说到，我们的材料工艺需要有好的设计和技术支撑，也要有别于国外，否则采用的设备和技术依然会受制于人。
凯诺中星做的是什么？孙凤霞教授分享到，公司是芯片/集成电路制程专用有机材料生产企业，定位是有机固体电子材料领域，涉及到半导体化学品包括光刻胶材料，包括树脂、单体、光酸剂等、刻蚀液添加剂、电镀液添加剂等有机材料、PI膜材料，包括PAA等。公司团队的优势集中在化工材料制造上，目前公司一共有100多个产品。最后，孙凤霞教授衷心的希望大家在产业链上紧密团结，共同努力，才能早日达成产业兴起和崛起的目标。
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