新洁能研发团队沟槽型工艺平台推出耐压30V 1mΩ级别增强型N沟道MOSFET 系列产品。
采用超高元胞密度、小线宽设计,使用新洁能特有的沟槽型工艺平台,搭配优化后的大电流产品封装工艺,以NCE011N30GU为例, 导通电阻典型值低至0.75mR,持续电流ID高达325A,优异的参数表现展示了沟槽型芯片设计和封装等工艺的技术实力。系列产品具有超高电流密度,超高抗雪崩击穿能力以及高可靠性表现,器件通过100% 雪崩测试,具有较优的鲁棒性,产品性能卓越,为市场提供经济高效的产品解决方案。
○ 高功电流密度
○ 超低导通阻抗
○ 高散热性能
○ 高可靠性