多层纳米级光学镀膜技术
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产品详情
采用物理气相沉积（PVD）和离子辅助沉积（IAD）工艺，在光学表面构建数十层纳米级薄膜结构。通过材料选择和膜厚精准控制（误差<1nm），实现宽带抗反射特性及特定光谱调控功能。创新点包含主动等离子体监控系统和自适应膜系设计算法，在可见光至近红外波段达到平均透光率>99.5%。
员工数量
5000-9999人
公司简介
公司位于台中市台中工业区，成立於1987年。为一专业精密光学镜片、镜头的制造厂商。生产产品诸如：数位相机镜头、照相机镜头、镜片、实像式相机视野框、传真机镜头、光电子扫描器镜头、影印机镜头、条码机镜头、非球面光学元件、各类光学镜头、镜片的开发及设计等等，从设计、制造到销售均自行研究开发，产品销售全球各知名的光电产品制造商。
经营范围
CE01030 光学仪器制造业 CQ01010 模具制造业 F113030 精密仪器批发业 F401010 国际贸易业 F601010 智慧财产权业 I501010 产品设计业 CF01011 医疗器材制造业 ZZ99999 除许可业务外，得经营法令非禁止或限制之业务
大立光電股份有限公司
其它20亿
1987-04-17
林恩舟
00886-436002345
臺中市南屯區精科路11號