产品&解决方案
利用湿法清洗和超临界流体技术去除晶圆表面杂质和颗粒残留。创新点结合声波辅助和化学溶液优化，实现超低颗粒残留和高选择性清洗。用于后蚀刻或后沉积的清洁步骤。
专为LCD和OLED面板生产开发的旋转涂布与显影系统。创新点采用多喷嘴喷射控制和高精度基板对准，确保光刻胶或其他功能性材料均匀涂布，实现微米级线宽控制。支持高世代面板产线高速生产。
基于TEL开发的低压化学气相沉积系统，用于在晶圆表面沉积高纯度薄膜。创新点在于多反应腔模块化设计，结合原子层沉积（ALD）混合技术，实现薄膜厚度均匀性小于1%和阶梯覆盖率提升。用于沉积氧化物、氮化物和金属膜层。
东京电子集团（TEL）核心的干法蚀刻技术，采用高精度等离子体源实现纳米级材料刻蚀。创新点包括双频射频耦合技术，支持亚10nm节点蚀刻，同时优化选择比和临界尺寸均匀性。具体应用于半导体前道制程中的图案转移，如FinFET和3D NAND结构制造。
提供平板显示生产设备及相关零部件
提供半导体生产设备及相关零部件
针对平板显示（FPD）制造提供设备，如用于LCD和OLED面板的TFT阵列制造系统，支持大尺寸基板处理和精密涂层。
用于半导体光刻工艺的设备和解决方案，如Track系列，提供高效的光刻胶涂布和显影处理，与EUV光刻机高度集成。
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员工数量
100-499人
公司简介
东电电子（上海）有限公司于2003年4月28日在自贸区市场监督管理局登记成立。法定代表人伊东晃（ITOHIKARU），公司经营范围包括半导体生产设备和平板显示生产设备及相关零部件等。
经营范围
一般项目：半导体生产设备和平板显示生产设备及相关零部件、软件的设计、研发、生产、安装调试、改造、维修，销售自产产品，提供相关技术咨询和服务，仓储服务（除危险品），自有设备租赁，半导体生产设备和平板显示生产设备及相关零部件、计算机软件（音像制品、电子出版物除外）的批发、佣金代理（拍卖除外）、进出口，并提供相关配套服务，受母公司及其授权管理的中国境内企业和关联企业的委托，为其提供投资经营管理和咨询服务、商品采购、销售（涉及许可的凭许可证经营）及市场营销服务、供应链管理等物流运作、资金运作和财务管理服务、技术支持和研究开发服务、信息服务、员工培训和管理服务，承接本集团内部的共享服务及境外公司的服务外包。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）
主营业务
半导体生产设备和平板显示生产设备及相关零部件的供应
东电电子（上海）有限公司
有限责任公司(外国法人独资)
$600万
2003-04-28
MATSUURA TSUGUHIKO（松浦次彦）
021-38954800
tesgashare@tel.com
中国（上海）自由贸易试验区上海市张江高科技园区高斯路555号