化学气相沉积 (Chemical Vapor Deposition, CVD)
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产品详情
应用材料提供全面的CVD解决方案（如Precision CVD, Producer平台），涵盖常压、低压、等离子体增强（PECVD）和亚稳气相外延（MVPE）等技术。核心在于精确的前驱体输送、反应腔室内的气体流场与温度均匀性控制、等离子体激发与稳定技术，以及原位监测。可实现多种关键薄膜材料（介电质、多晶硅、金属、外延硅/硅锗）的高质量、高保形性沉积。
员工数量
500-999人
公司简介
我们是材料工程解决方案的领先企业之一，全球几乎每一个新生产的芯片和先进显示器的背后都有应用材料公司的身影。超过55年来，我们锐意创新，为全球数十亿人的生活带来改善，我们可能不为人知，但人们每天都倚赖我们与科技互动。
全球天资聪颖的人才——卓有远见的创想者、工程师、科学家——带着他们在材料工程领域的专业来到应用材料公司，在这里不同的观点、经验和背景碰撞激荡。
我们致力于引领材料创新，驱动全球变革。
经营范围
研制、生产半导体生产设备及零部件、半导体制造工艺软件的制作，销售自产产品；提供上述产品同类商品的批发、进出口及佣金代理（拍卖除外）；提供维修、售后服务及相关的技术支持、技术服务、技术培训、技术咨询。【依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】
主营业务
设计、制造、销售和维修用于半导体芯片制造的先进设备及相关服务，其核心在于为集成电路制造商提供制造芯片所需的关键工艺设备和工艺技术解决方案。
应用材料（中国）有限公司
有限责任公司(港澳台法人独资)
$1,200万
2002-03-21
GONGDA YAO
021-38616000
xiaoting_gu@amat.com
中国（上海）自由贸易试验区银冬路20弄7号楼1-2层及6-10层