应用产品组合（Holistic Lithography）
整合光刻机与计算光刻软件（如Tachyon）的综合解决方案。通过光学邻近效应修正（OPC）、光源优化和实时调参技术，最大化光刻系统的性能与良率，覆盖从DUV到EUV的全流程需求。
计量与检测系统
包含YieldStar光学计量系统和电子束检测工具。YieldStar采用散射测量技术实时测量晶圆上的关键尺寸（CD）、套刻精度和薄膜厚度；电子束检测工具（如HMI产品线）则通过高分辨率成像定位微观缺陷，共同确保半导体制造过程的质量控制。
深紫外线光刻系统 (DUV)
采用193纳米（氟化氩激光）或248纳米（氟化氪激光）波长的深紫外光刻技术。TWINSCAN系列是其主要产品线，具有双工作台设计以提高产能，适用于28纳米至成熟工艺节点。包含浸润式光刻机（如NXT系列），通过液体浸没技术提升分辨率。
极紫外线光刻系统 (EUV)
ASML的核心产品，使用13.5纳米波长的极紫外光进行光刻，专为制造先进半导体芯片设计。该系统包括高精度光学元件、先进光源和复杂控制系统，能够实现7纳米及以下工艺节点。代表型号包括NXE:3400C和NXE:3600D，广泛应用于全球最尖端的晶圆厂。
员工数量
100-499人
经营范围
研发、维护、改进光刻设备系统，开发相关技术并提供相应技术服务，光刻设备及其零部件的批发、进出口、佣金代理（拍卖除外）并提供售后服务及其他相关配套服务，企业管理咨询，商务信息咨询（金融信息除外）。【依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】。
主营业务
半导体光刻设备的研发、制造和销售，特别是面向高端芯片制造商的先进极紫外（EUV）和深紫外（DUV）光刻系统。
阿斯麦（上海）光刻设备科技有限公司
有限责任公司(外国法人独资)
$105万
2000-08-23
沈波
021-20366297
jenny.fan@asml.com
中国（上海）自由贸易试验区金科路2889弄1号（长泰广场办公楼A座）9层01、02、03、04、05单元