反应离子镀沉积设备
用于真空薄膜沉积的工艺设备，适用于硬质涂层、光学膜和功能材料沉积。通过离子辅助反应技术，实现高密度、高纯度的薄膜制备。设备支持多种反应气体和靶材，可用于实验室研究或规模化生产应用，确保涂层均匀性和耐磨性，广泛用于光伏、半导体和精密制造领域。
低损伤磁控溅射PVD设备
物理气相沉积设备，主要应用于光伏HJT电池中的透明导电氧化物（如ITO）层沉积。采用优化的磁控溅射技术，通过降低离子轰击损伤保护电池基底，提升薄膜附着力和导电性能。设备具有自动化控制和高可靠性，可集成于产线实现GW级产能，支持快速更换靶材和实时工艺监控，以延长电池寿命和减少停机时间。
PECVD设备
等离子增强化学气相沉积设备，专为光伏异质结（HJT）电池生产设计，用于沉积非晶硅薄膜层。该设备基于高均匀性和高产率技术，支持GW级大规模产线，适用于本征和掺杂层的沉积过程，以提高电池转换效率和长期稳定性。核心技术包括精准的等离子体控制和薄膜厚度管理，确保电池组件的高性能。
融资次数
1
员工数量
100-499人
经营范围
一般项目：技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；智能基础制造装备制造；光伏设备及元器件制造；光伏设备及元器件销售；电工机械专用设备制造；半导体器件专用设备制造；半导体器件专用设备销售(除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动)。
主营业务
研发、制造和交付真空薄膜沉积设备，特别专注于光伏应用及相关技术。
捷造科技（宁波）有限公司
其他有限责任公司
￥5,935万
2022-04-25
张迎春
13777227607
chenml@jzstem.com
浙江省宁波市宁海县梅林街道兴科西路6号