纳米级投影光刻技术
基于深紫外光（DUV）投影系统，采用准分子激光光源（如248nm或193nm波长）和高数值孔径光学镜头，通过精密投影光学将掩膜图案转移到晶圆表面。创新点包括自研步进扫描机制和自动对准算法，实现纳米级分辨率（可低至100nm）和高覆盖精度，并结合热稳定性设计减少成像变形，适用于高密度半导体制版。关键技术在于光学畸变控制和光源均匀性优化，确保大尺寸器件的一致性。
激光直接成像技术
该技术利用高功率激光源（如UV激光）和数字光处理器件（如DMD或激光调制器），直接在光敏基板上实现无掩膜成像。创新点包括结合数字控制软件优化激光路径，实现微米级分辨率（通常为5-10μm）和高速写入，减少了掩膜制作成本和时间，同时支持实时图案修正。关键技术参数包括激光点尺寸控制和精确对准系统，提升制造效率和精度。
融资次数
3
员工数量
50-99人
经营范围
一般项目：半导体器件专用设备制造；半导体器件专用设备销售；机械设备研发；机械设备销售；光学仪器制造；光学仪器销售；电子测量仪器制造；电子测量仪器销售；电子产品销售；软件开发；软件销售；货物进出口；技术进出口；机械设备租赁；专用设备修理；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）
主营业务
半导体用纳米级制版光刻设备及激光直接成像设备（LDI）的研发、制造与供应，核心应用于集成电路、掩膜版、MEMS器件和高端PCB制造领域，设备具备高精度、高效率特性，服务于行业领先企业如中电科集团、深南电路和明阳电路。
江苏影速集成电路装备股份有限公司
股份有限公司(非上市)
￥9,306万
2014-08-26
傅志伟
adm@ysphotech.com
邳州经济开发区辽河西路66号