光刻胶材料
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产品详情
公司开发系列紫外光刻胶（UV Photoresist）和电子束光刻胶（E-beam Resist），覆盖I-line（365nm）到深紫外波段。产品具备高分辨率（<100nm线宽）、优异粘附性和显影稳定性，适用于MEMS传感器、光学器件等微纳加工，支持倒装、阶梯式多层次光刻工艺。
专利数量
31
公司简介
四川芯辰光微纳科技有限公司，成立于2019年，位于四川省成都市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本500万人民币，实缴资本270万人民币。
经营范围
微光学防伪技术，微流体技术、精密制造技术领域的技术开发、技术咨询、技术服务和技术转让；微纳光学新型功能性材料，微光学防伪标识，微光学芯片，生化分析微流控芯片，光学零部件，精密机械零部件，电子产品，电子材料及其制品，金属材料及其制品的研发、设计及服务；计算机软件开发；货物或技术进出口（国家禁止或涉及行政审批的货物或进出口除外）。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可展开经营活动）。
主营业务
科技推广和应用服务
四川芯辰光微纳科技有限公司
其他有限责任公司
￥500万
2019-04-02
谢志梅
028-85467326
237570019@qq.com
成都市武侯区科华北路141号附1号308室