半导体精密清洗设备
用于半导体晶圆制造环节，执行RCA清洗或单晶片清洗。设备集成化学槽（如SC1氨水溶液）、超声辅助单元和超临界CO₂干燥，去除金属离子、微粒和有机污染物，确保芯片可靠性和性能。支持先进封装工艺如FinFET和3D IC，符合SEMI标准和ISO/IEC 17025实验室规范。
LCD精密清洗设备
针对液晶显示器（LCD）面板清洗需求，处理玻璃基板和液晶单元。设备采用多槽化学清洗、超声波振荡和氮气干燥技术，去除微粒、指纹和有机物残留，支持在线光学检测系统，提高面板亮度和视角一致性，适用于电视和显示面板量产线。
TFT精密清洗设备
专为薄膜晶体管（TFT）显示面板生产设计，针对玻璃基板去除光刻胶残留、微粒和离子污染。设备集成喷淋系统、超声波槽和超纯水冲洗单元，结合自动化传送带，确保高良率和显示均匀性，满足ITRS半导体行业规格，用于智能手机和平板显示器制造。
碳氢化合物精密清洗设备
该设备采用环保碳氢溶剂（如正庚烷或异丙烷）替代ODS（臭氧层破坏物质），用于高精度工业清洗。适用于汽车零件、航空航天组件和精密制造业，支持冷脱脂和热回收过程，有效去除油脂、金属切屑，符合ISO 14001环境管理体系要求，减少VOCs排放。
医疗清洗消毒器械
包括自动清洗消毒机和灭菌设备，符合医疗器械GSP标准和ISO 13485认证。用于医院手术器械、牙科工具和实验室器材的清洗、消毒及灭菌，支持高温蒸汽、化学消毒或紫外线照射方式，有效杀灭细菌、病毒和孢子，确保无菌操作和交叉感染控制。
纯水设备
该系统生产去离子水（DI水）或超纯水（UPW），用于工业清洗、制药和实验室等场景。设备整合预处理（如砂滤、活性炭过滤）、反渗透（RO）、离子交换树脂和电去离子（EDI）模块，输出水质电导率≤0.1μS/cm，符合ASTM D1193和USP<645>标准，确保高纯度应用如半导体清洗和医疗用水安全。
超声波精密清洗设备
该设备利用超声波空化效应在清洗液中产生高频振荡，实现高精度清洗。适用于电子元器件、医疗器械、光学部件和机械零件等领域，能有效去除油污、微粒和有机残留物。设备通常配备多频率选择（20-100kHz）、温度控制系统、自动过滤和干燥功能，满足ISO 14644-1洁净室标准，提升清洗效率和工件表面完整性。
员工数量
-
专利数量
43
经营范围
超声波清洗机、超声波塑料焊接机的生产；经营进出口业务（按深贸管准证字第2002-436号核准的范围经营）。（以上均不含法律、行政法规、国务院决定规定需前置审批和禁止的项目）；在合法取得使用权的土地上从事房地产开发经营；物业管理；房地产经纪；房地产信息咨询；自有物业租赁。半导体器件专用设备制造；金属表面处理及热处理加工；专用设备制造（不含许可类专业设备制造）；环境保护专用设备制造；电子专用设备制造；机械设备销售；机械设备研发。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）^
主营业务
超声波精密清洗设备
深圳市科伟达超声波设备有限公司
有限责任公司(自然人投资或控股)
1997-06-23
周耀尚
jiangxuemei@chinakwd.com
深圳市龙华区观澜街道新澜社区布新路222-7号一单元101