脉冲电源
针对真空电弧和脉冲镀膜开发的脉冲电源，频率调节范围1Hz至100kHz，输出峰值功率可达兆瓦级，具备纳秒级响应时间和高占空比，适用于高质量膜层沉积、纳米材料和硬质涂层应用。
电化学电源
用于电化学抛光、阳极氧化和电解沉积等工艺的高精度电源系统，提供低纹波、高稳定性的直流输出，功率覆盖500W到100kW，支持脉冲和直流模式，并集成过载保护和安全诊断，广泛应用于金属表面处理、电解槽和废水处理设备。
等离子体处理系统电源
适用于真空等离子清洗、表面活化和等离子体增强化学沉积（PECVD）的集成电源设备，支持射频（RF）和微波等离子体生成，功率可调范围广泛，具备自动气体控制和工艺参数监控功能，用于工业清洗、涂层沉积和材料改性。
直流电源
专为真空镀膜（如溅射镀膜）设计的直流电源系统，输出功率从1kW到500kW不等，具备恒压、恒流和脉冲模式，可实现对膜层厚度和质量的精确控制，应用于太阳能电池、光学薄膜和半导体制造等领域。
高频电源
用于真空等离子体处理和材料表面改性应用的高频逆变电源，功率范围覆盖100W至2000kW（兆瓦级），频率可达MHz范围，支持精确的频率和功率调节，广泛应用于真空镀膜、蚀刻、CVD（化学气相沉积）等工艺，提供高稳定性输出并兼容各种反应器系统。
员工数量
小于50人
专利数量
27
经营范围
一般项目：电子专用设备制造；电子专用设备销售；电力电子元器件制造；先进电力电子装置销售；泵及真空设备制造；电工仪器仪表制造；电工仪器仪表销售；泵及真空设备销售；机械电气设备制造；机械电气设备销售；货物进出口。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）
主营业务
专注于真空等离子和电化学等材料表面处理领域的电气设备研发、制造及销售，提供包括真空镀膜电源、高频电源等在内的多类电源产品解决方案。