有研国晶辉 - 公司详情 - 核心技术

基于化学气相沉积（CVD）方法，通过精确控制生长参数和表面钝化工艺，生产高纯度硅外延层，创新点在于实现厚度均匀性（±2%）和载流子迁移率提升（>500 cm²/V·s），适用于高速电子器件。

该技术采用改进的Czochralski熔体生长法和区域熔炼工艺，实现ppb级杂质控制和高晶格完整性，核心创新点在于开发出大尺寸（直径可达300mm）锗单晶的规模化生产体系，大幅提升材料的光电性能和稳定性。

科创行业

新一代信息技术电子信息

员工数量

100-499人

专利数量

162

经营范围

电子专用材料制造；电子专用材料销售；电子专用材料研发；光学仪器制造；光学仪器销售；技术服务、技术开发、技术咨询、技术转让、技术推广；货物进出口；技术进出口；信息咨询服务（不含许可类信息咨询服务）；通用设备维修；机械设备租赁；物业管理；非居住房地产租赁。

主营业务

主营人工晶体材料、红外光学材料和先进陶瓷的研发、生产与销售，聚焦于高科技新材料领域，服务于国防军工、光电子通信和工业制造等行业。

公司全称

有研国晶辉新材料有限公司

公司类型

有限责任公司（自然人投资或控股的法人独资）

成立时间

2012-01-12

法定代表人

曹波

邮箱

zl@guojing-tech.com

地址

河北省廊坊市经济技术开发区百合道4号