叁砖科技
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MOCVD设备研发公司
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高效MOCVD沉积技术
叁砖科技的核心技术基于Metal-Organic Chemical Vapor Deposition(MOCVD),专为化合物半导体材料设计,如氮化镓(GaN)和砷化镓(GaAs)。创新点包括:采用多区动态温控系统,确保衬底温度均匀性偏差小于±1摄氏度;优化反应腔的气流动力学设计,实现源气体的高效混合和湍流控制,减少边缘效应;结合智能原位监测技术,实时调整沉积参数,提高薄膜生长的一致性和缺陷抑制率。
科创行业
融资次数
4
专利数量
1
经营范围
许可项目:检验检测服务(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动,具体经营项目以审批结果为准)一般项目:技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广;半导体器件专用设备制造;半导体分立器件制造;半导体器件专用设备销售;电子专用材料制造;电子专用材料销售;电子产品销售;专用设备制造(不含许可类专业设备制造);泵及真空设备制造;仪器仪表销售;销售代理;货物进出口;技术进出口;进出口代理(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动)
主营业务
MOCVD设备及零部件的研发、制造与销售,服务于化合物半导体产业链的核心制造环节
公司全称
叁砖科技(南京)有限公司
公司类型
有限责任公司(自然人投资或控股)
注册资本
¥390万
成立时间
2024-03-26
法定代表人
杨翠柏
电话
15995027385
邮箱
qianyu.wang@tribricks-tech.com
地址
江苏省常州市新北区龙虎塘街道信息大道6号-3幢