多种前驱体
包括硅烷、六氟化钨等前驱体化学物，用于半导体化学气相沉积（CVD）和原子层沉积（ALD）技术，在晶圆表面形成高精度介电层、金属层或多功能薄膜。
含氟系列气体
包括高纯度氟化氢、氟气等气体，专用于半导体先进蚀刻技术（如等离子增强蚀刻），在蚀刻氧化硅、氮化硅和金属层中提供高效能表现。
电子级氯化氢
高纯度氯化氢气体，应用于半导体蚀刻和清洗过程，用于去除氧化物和杂质，同时保持低颗粒浓度以满足高端制程需求。
电子级氯气
高纯度氯气，用于半导体等离子蚀刻工艺，特别是在先进制程中对硅和金属的蚀刻清洗，支持纳米级器件制造。
poly蚀刻液
针对多晶硅材料优化的蚀刻液，在半导体制造中用于蚀刻多晶硅层（poly layer），确保高选择性蚀刻以形成精确的栅极结构。
缓冲氧化蚀刻液
专门设计的化学蚀刻液，用于精确蚀刻半导体器件中的缓冲氧化层（如SiO2缓冲层），控制蚀刻速率以保证尺寸精度和表面平整度。
电子级氨水
高纯度的氨水溶液，用于半导体晶圆的碱性清洗和表面处理，能有效去除有机污染物并提高蚀刻一致性。
电子级盐酸
高纯度的盐酸，应用于半导体蚀刻和清洗步骤，帮助移除氧化物残留和金属污染物，确保晶圆表面的高清洁度。
A股代码
688549.SH
员工数量
50-99人
专利数量
2
经营范围
电子化学材料及配套产品、化工产品及原料、电子产品及电子材料的技术开发、技术转让；新材料技术推广服务；电子化学材料及配套产品、化工产品及原料的销售（不含危险化学品及易制毒化学品）；货物及技术进出口（法律法规限制的除外，应当取得许可证的凭许可证经营）。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）
主营业务
半导体用高纯度电子湿化学品、电子气体和前驱体的研发、生产和销售。
中巨芯科技股份有限公司
其他股份有限公司(上市)
￥14.7728亿
2017-12-25
童继红
0570-3614208
grandit@grandit.com.cn
浙江省衢州市东南时代城3幢857室