单片湿法清洗技术
开发兆声波耦合微气泡发生技术，实现纳米级颗粒去除而不损伤精细结构。创新采用多化学液实时混配系统，搭配原位电化学监测模块，可动态调整刻蚀选择比（>1000:1），满足14nm以下先进制程清洗要求。
高温氧化扩散技术
采用分布式多点红外测温与气流动力学模型实时耦合控制系统，实现晶圆内温度均匀性±0.5℃。集成低压化学气相沉积(LPCVD)模块，首创分区气体注入技术，在28nm节点实现陡峭掺杂分布（结深偏差<±2nm）。
磁控溅射PVD技术
集成自研高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)技术，通过等离子体密度调制实现超高离化率(>90%)。创新采用旋转靶材耦合磁场整形技术，突破传统PVD台阶覆盖率限制，在5:1深宽比结构中实现保形性沉积，铜互连电阻均匀性达±3%以内。
原子层沉积技术(ALD)
采用热ALD和等离子体增强ALD(PEALD)双模式，实现亚纳米级薄膜厚度控制。创新性运用分区温控反应腔设计，结合前驱体脉冲调制技术，显著降低薄膜缺陷密度。特别开发高介电常数(k>25)金属栅堆栈工艺，突破10Å以下超薄介质层沉积瓶颈。
等离子体刻蚀技术
基于电容耦合等离子体(CCP)和电感耦合等离子体(ICP)的先进刻蚀系统，采用多区电极控制、反应腔室流体动力学优化及脉冲调制技术，实现原子级精度刻蚀。支持高深宽比结构加工，可在14nm以下逻辑芯片和128层以上3D NAND制造中实现亚纳米级轮廓控制。
A股代码
002371.SZ
员工数量
50-99人
专利数量
474
经营范围
组装生产集成电路设备、光伏设备、TFT设备、真空设备、锂离子电池设备、流量计、电子元器件；销售集成电路设备、光伏设备、TFT设备、真空设备、锂离子电池设备、流量计、电子元器件；技术咨询；技术开发；技术转让；经济贸易咨询；投资及投资管理；货物进出口；技术进出口；代理进出口。（市场主体依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事国家和本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）
主营业务
半导体集成电路设备的研发、生产和销售
北方华创科技集团股份有限公司
其他股份有限公司(上市)
￥4.9644亿
2001-09-28
赵晋荣
010-57840281
ncar@naura.com
北京市朝阳区酒仙桥东路1号