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五方光电
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晶圆级红外滤光片(WLO)
通过半导体光刻工艺在蓝宝石晶圆上制造微型光学结构,结合离子辅助沉积(IAD)镀膜实现晶圆级红外截止滤光片批量生产。创新点在于采用步进式光刻技术实现<5μm的图形精度,单位成本降低40%的同时保持光学性能一致性(CPK>1.67)。
生物识别光学滤光片
基于窄带通干涉滤波技术,开发针对3D传感(结构光/ToF)的特定波长(如940nm)滤光片。核心技术在于精准控制光谱半宽(FWHM<10nm)和环境光抑制(透过率<0.1%),通过离子束溅射沉积工艺实现纳米级膜厚控制,确保深度信息采集精度。
红外截止滤光片(IRCF)技术
采用精密光学镀膜工艺,在玻璃基材上沉积多层介质膜系,实现对红外光谱的高效截止(>90%)与可见光波段的高透过率(>92%)。核心技术包括膜系结构设计、溅射镀膜工艺及环境稳定性控制,可消除红外光对图像传感器的干扰,提升成像色彩还原度。
A股代码
002962.SZ
员工数量
500-999人
专利数量
134
经营范围
光电子元器件生产销售;自营、代理进出口业务(国家限制的商品和技术除外)。##
主营业务
精密光电薄膜元件的研发、生产和销售
公司全称
湖北五方光电股份有限公司
公司类型
股份有限公司(上市、自然人投资或控股)
注册资本
¥2.9287亿
成立时间
2012-06-11
法定代表人
廖彬斌
电话
0716-8800009
邮箱
ly@w-olf.com
地址
荆州市深圳大道55号