稀释/清洗液
稀释/清洗液主要包括稀释剂和清洗溶剂，用于调整其他化学品浓度或在制程后清洗基板表面。产品确保高纯度、低颗粒度，有效去除杂质和残留，维持生产线稳定，适用于光伏面板和半导体工厂的日常清洁维护。
剥离液
剥离液专用于移除光刻胶或无机残留物，产品具有高效剥离性能、对基板材料无损伤，并能处理不同厚度的胶层。广泛应用于半导体封装、太阳能电池板和平板显示清洁等环节，提高工艺流程效率。
蚀刻液
格林达提供多种蚀刻液，包括硅蚀刻液、铝蚀刻液和铜蚀刻液等，用于选择性去除晶圆表面的特定材料。这些产品通过精确控制蚀刻速率和选择性，确保在光刻后形成精细结构，适用于先进制程芯片和平板显示器的制造。
负胶显影液
负胶显影液适用于负性光刻胶的显影过程，能溶解曝光区域的光刻胶，实现高对比度显影效果。产品针对芯片制造和平板显示行业设计，具有高稳定性和低金属离子含量，减少对基板的污染和缺陷生成。
正胶显影液
格林达公司的正胶显影液专用于半导体和平板显示制造过程，主要作用是在光刻后溶解正性光刻胶的未曝光区域，形成清晰的电路图案。产品采用高纯度化学成分，确保显影精确、残留少，并支持不同工艺条件的需求。
员工数量
100-499人
专利数量
53
经营范围
一般项目：电子专用材料研发；电子专用材料制造；电子专用材料销售；再生资源回收（除生产性废旧金属）；再生资源加工；再生资源销售；包装材料及制品销售；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广(除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动)。许可项目：危险化学品经营；危险化学品生产；有毒化学品进出口；货物进出口(依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以审批结果为准)。
主营业务
专注于研发、生产和销售定制化湿电子化学品，并提供配套技术服务，服务于半导体芯片、平板显示和太阳能光伏制造领域的清洗、蚀刻和显影需求。
杭州格林达电子材料股份有限公司
其他股份有限公司(上市)
￥1.9956亿
2001-10-17
方伟华
greenda@greendachem.com
萧山区杭州萧山临江工业园区红十五路9936号