反应离子刻蚀（RIE）技术
微导纳米开发的高精度RIE技术通过调节离子能量和气体比例，实现纳米尺度选择性地材料移除。其核心创新点是采用磁场增强等离子体源，提升刻蚀均匀性并减少基材损伤，配合智能闭环控制模块，显著优化了刻蚀速率和侧壁角度控制，适用于高纵横比结构。
等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术
该技术利用等离子体激活化学反应气体，结合高精度射频电源控制，在低温下实现高质量薄膜沉积。微导纳米的创新在于集成先进的等离子体均匀化系统，提高了薄膜的密度和附着力，同时降低颗粒污染；其独特的电极设计确保在微米级设备制造中的一致性和稳定性。
原子层沉积（ALD）技术
微导纳米的ALD技术基于原子级表面反应原理，采用专利型气体脉冲系统和热管理系统，实现了单原子层精度控制薄膜厚度。其创新点在于开发了高均匀沉积腔室设计，结合原位监测模块，显著减少了缺陷并适应多种材料（如氧化铝、氧化铪），特别针对大面积基板和复杂结构优化了沉积速率与热稳定性。
细分行业
A股代码
688147.SH
员工数量
500-999人
专利数量
352
经营范围
电子产品、半导体、新能源材料、纳米技术镀膜专用设备、专用纳米材料的研发、设计、生产、技术咨询、技术服务。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）
主营业务
先进薄膜沉积和刻蚀装备的开发、设计、生产和服务
江苏微导纳米科技股份有限公司
股份有限公司（外商投资、上市）
￥4.5446亿
2015-12-25
王磊
0510-81975988
xiangyu.zhang@leadmicro.com
无锡市新吴区长江南路27号