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微导纳米
高端设备制造商
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反应离子刻蚀(RIE)技术
微导纳米开发的高精度RIE技术通过调节离子能量和气体比例,实现纳米尺度选择性地材料移除。其核心创新点是采用磁场增强等离子体源,提升刻蚀均匀性并减少基材损伤,配合智能闭环控制模块,显著优化了刻蚀速率和侧壁角度控制,适用于高纵横比结构。
等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术
该技术利用等离子体激活化学反应气体,结合高精度射频电源控制,在低温下实现高质量薄膜沉积。微导纳米的创新在于集成先进的等离子体均匀化系统,提高了薄膜的密度和附着力,同时降低颗粒污染;其独特的电极设计确保在微米级设备制造中的一致性和稳定性。
原子层沉积(ALD)技术
微导纳米的ALD技术基于原子级表面反应原理,采用专利型气体脉冲系统和热管理系统,实现了单原子层精度控制薄膜厚度。其创新点在于开发了高均匀沉积腔室设计,结合原位监测模块,显著减少了缺陷并适应多种材料(如氧化铝、氧化铪),特别针对大面积基板和复杂结构优化了沉积速率与热稳定性。
细分行业
A股代码
688147.SH
员工数量
500-999人
专利数量
352
经营范围
电子产品、半导体、新能源材料、纳米技术镀膜专用设备、专用纳米材料的研发、设计、生产、技术咨询、技术服务。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)
主营业务
先进薄膜沉积和刻蚀装备的开发、设计、生产和服务
公司全称
江苏微导纳米科技股份有限公司
公司类型
股份有限公司(外商投资、上市)
注册资本
¥4.5446亿
成立时间
2015-12-25
法定代表人
王磊
电话
0510-81975988
邮箱
xiangyu.zhang@leadmicro.com
地址
无锡市新吴区长江南路27号