一塔半导体
Pre-A轮
宽禁带半导体先进制程设备研发商
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半导体设备智能监控平台
基于工业物联网的装备健康管理系统,通过多传感器数据融合(温度、振动、真空度等)实现设备预测性维护,集成SECS/GEM协议支持晶圆厂自动化集成,提供工艺稳定性分析和良率提升方案。
晶圆级等离子体刻蚀系统
面向宽禁带半导体器件的干法刻蚀解决方案,采用ICP(电感耦合等离子体)和RIE(反应离子刻蚀)双模式技术,实现SiC/GaN材料的高深宽比刻蚀与侧壁形貌控制,支持在线工艺监测和自动配方管理。
SiC/GaN外延生长设备
为第三代半导体材料(碳化硅SiC和氮化镓GaN)提供高性能的外延生长设备,采用高温化学气相沉积(HT-CVD)技术,支持6-8英寸晶圆量产工艺,满足高均匀性、低缺陷率的材料生长需求。
融资次数
1
主营业务
专注于研发、生产和销售宽禁带半导体先进制程设备的综合性科技企业
公司全称
一塔半导体(安徽)有限公司
公司类型
其他有限责任公司
注册资本
¥613万
成立时间
2024-02-05
法定代表人
王涛
地址
安徽省合肥市经济技术开发区云二路176号珠江路科技园B栋一层南侧103室