清洗化学品
清洗化学品是半导体生产中的关键化学品，用于晶圆清洗去除污染物、颗粒和残留物。产品包括溶剂如异丙醇、双氧水、醋酸和盐酸等，提供酸性清洗液和碱性清洗液，具有高纯度（低金属离子含量）、无残留和高效率特点。广泛应用于前道和后道制造工序，确保芯片表面洁净度和良率提升，同时符合安全标准处理危险化学品。
CMP浆料
化学机械抛光（CMP）浆料用于半导体晶圆的平坦化过程，通过机械研磨和化学作用去除表面不平整。产品包括基于氧化铝、二氧化硅或铈基的浆料，针对不同层（如金属互连层或介质层）设计，具有优异的材料去除率、表面平整度和低缺陷特性，确保在高级芯片制造中实现高均匀性和精密度。
蚀刻剂
蚀刻剂用于半导体制造中的湿法蚀刻过程，针对不同材料（如硅、二氧化硅、金属层等）提供化学蚀刻解决方案。产品包括酸性蚀刻剂（如硝酸、盐酸混合物）和碱性蚀刻剂，具有高选择性、蚀刻速率可控和低杂质特点，确保在蚀刻步骤中精确去除目标材料，同时最小化对底层结构的损伤。特定产品如蚀刻剂回收液磷混酸，支持回收加工后再利用，提高资源效率。
光刻胶
光刻胶是半导体和显示器制造中的关键光敏材料，用于在晶圆表面形成精细图案。它包括正型光刻胶（在曝光区域溶解）和负型光刻胶（在曝光区域不溶解），支持高分辨率图案转移，适用于先进节点工艺（如7nm及以下）。产品具有高灵敏度、低缺陷率和高抗蚀性特性，确保在光刻过程中实现精确控制。
融资次数
1
员工数量
50-99人
经营范围
电子材料及器件的制造、销售；电子类相关化学原料、化学制品的制造、销售及研究开发；电子类相关化学废弃资源的回收加工；电子材料相关技术服务、咨询和调查；电子材料及器件、电子类相关化学原料及化学制品、危险化学品（蚀刻剂回收液磷混酸、醋酸、硝酸、双氧水、异丙醇、盐酸）的批发及佣金代理（拍卖除外）（不涉及国营贸易管理商品、涉及配额、许可证及国家专项规定管理的商品，按照国家有关规定办理）；以及上述产品为主的相关产品的技术咨询和售后服务。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）
主营业务
电子材料及电子类化学制品的制造与销售
住化电子材料科技（合肥）有限公司
有限责任公司(外商合资)
$2,839万
2009-10-13
下村秀树
0551-65190908
sunjing@semhf.cn
安徽省合肥市新站区工业园内新汴河路以南