射频组件
射频组件包含各种支持射频系统的核心部件，如连接器、滤波器、耦合器和调制模块等，用于集成到完整的射频设备中。这些组件专为半导体级别应用设计，频率覆盖400KHZ至162MHZ，强调高精度、低噪声和长寿命。其主要应用于半导体晶圆制造、泛半导体太阳能电池和LED生产、平板显示行业，以及高校研究所的研究项目、数据存储系统、ITO导电玻璃处理、工业镀膜设备和医疗MRI核磁共振等。通过这些组件，系统能高效支持PVD、PECVD、CVD、ETCH、IMP和ASHER等复杂工艺，确保射频系统在等离子体发生、磁控溅射等应用中保持稳定和高效运行。
射频匹配器
射频匹配器用于优化射频系统的阻抗匹配，提高信号的传输效率和能量利用率。该产品与射频发生器协同工作，频率覆盖范围一致（从400KHZ到162MHZ），专为半导体制造环境设计，提供精确的调谐和扫频功能，以减少反射损失并提升系统可靠性。应用领域包括半导体晶圆制造的刻蚀、沉积工艺，泛半导体行业的太阳能电池和LED生产，以及工业镀膜、磁控溅射、等离子体发生设备等场景。同时，它也支持高校研究所的实验需求和数据存储技术中的射频系统集成，确保在PVD、PECVD、CVD、ETCH等工艺流程中的最佳性能表现。
射频发生器
射频发生器是伊恩埃的核心产品之一，提供频率覆盖400KHZ、13.56MHZ、2MHZ、27MHZ、60MHZ和162MHZ的射频信号生成能力。该产品在功能性指标、扫频功能、射频精度和转换效率方面优化设计，专门用于半导体晶圆制造工艺（如FAB制程）、泛半导体行业（包括太阳能电池、LED和平板显示）、高校及研究所实验、医疗影像MRI核磁共振、数据存储、ITO导电玻璃处理、工业镀膜、磁控溅射和等离子体发生设备中。其支持的具体工艺技术包括PVD（物理气相沉积）、PECVD（等离子体增强化学气相沉积）、CVD（化学气相沉积）、ETCH（蚀刻工艺）、IMP（离子注入）和ASHER（离子去胶）等流程，确保高稳定性和性能匹配。
员工数量
小于50人
专利数量
14
经营范围
一般项目：半导体器件专用设备制造；电子测量仪器制造；仪器仪表制造；变压器、整流器和电感器制造；仪器仪表修理；电子测量仪器销售；机械电气设备销售；仪器仪表销售；货物进出口；技术进出口；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）
主营业务
半导体级别射频发生器、射频匹配器及射频组件的研发、生产与组装
上海伊恩埃半导体科技股份有限公司
股份有限公司(非上市、自然人投资或控股)
2022-06-30
钟建军
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上海市浦东新区瑞庆路528号24幢甲号1层