杭纳半导体
半导体器件专用设备研销商
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智能离子注入技术
采用射频谐振加速结构的低能大束流注入系统,创新性整合束流自动聚焦透镜组与三维剂量分布补偿算法。关键技术突破在于基于AI的束流剖面实时预测模型,通过150个以上原位传感器数据融合,动态修正注入角度偏差至±0.05°,实现掺杂浓度梯度误差<3%的精准控制。
高精度真空镀膜技术
基于分子束外延(MBE)与物理气相沉积(PVD)融合的纳米级薄膜制备技术,通过多腔室真空集群架构实现10⁻⁸ Pa级超高真空环境。其核心创新点在于闭环式膜厚实时监控系统,采用X射线反射仪(XRR)结合原位光谱椭偏仪,实现亚纳米级(<0.1nm)膜厚控制精度与成分梯度调控。
科创行业
员工数量
小于50人
专利数量
19
经营范围
一般项目:半导体器件专用设备制造;半导体器件专用设备销售;泵及真空设备制造;泵及真空设备销售;机械电气设备制造;机械电气设备销售;技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广;技术进出口;进出口代理;货物进出口(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动)。
主营业务
半导体器件专用设备的研发、制造和销售,包括泵及真空设备等相关支持设备的业务运营。
公司全称
杭纳半导体装备(杭州)有限公司
公司类型
有限责任公司(自然人投资或控股)
成立时间
2022-07-15
法定代表人
来华杭
邮箱
laihuahang@hnnec.com
网址
地址
浙江省杭州市萧山区经济技术开发区萧山机器人小镇鸿兴路389号