超净高纯醋酸
高纯度醋酸（HAc），达到G4级或更高纯度标准，主要用于半导体化学品的缓冲剂和溶剂体系。在湿法清洗和蚀刻工艺中，作为酸调制剂稳定pH值，减少晶圆表面的残留微粒和离子污染。关键应用包括光刻胶去除后的中和步骤和后段工艺的污染控制。
超净高纯硝酸
高纯度硝酸（HNO3），达到G4级或更高纯度标准，专用于半导体湿法蚀刻和金属层去除工艺。在酸性条件下，可高效蚀刻金属（如铝、铜）和钝化层，减少微粒残留和离子污染。其高纯度确保蚀刻均匀性和可控性，适用于先进制程中的后端互联和后段封装环节。
超净高纯氯化氢
高纯度氯化氢（HCl），达到G4级或更高纯度标准，应用于半导体制造中的酸性清洗和金属蚀刻工艺。该产品有效去除残留的金属离子（如铜或镍）、氧化物和有机污染物，防止晶圆表面缺陷。同时，适用于湿法刻蚀机中的酸性环境调节，提升制程稳定性和器件性能。
超净高纯氟化铵
高纯度氟化铵（NH4F），达到G4级或更高纯度标准，主要用于半导体蚀刻工艺中的硅氧化物和硅化物移除。其高纯特性确保蚀刻率稳定，避免引入金属杂质（如铝或钙），保证晶圆结构的精确性和均匀性。关键应用包括化学机械抛光（CMP）后清洁和先进节点的图形蚀刻步骤。
超净高纯氢氧化铵
高纯度氢氧化铵（NH4OH），达到G4级或更高纯度标准，专用于半导体湿法蚀刻和清洗工艺，特别在碱性环境下去除颗粒和有机物残留。该产品能高效控制离子杂质（如钠、钾离子），提升晶圆在光刻和沉积步骤的表面质量，提高半导体的可靠性和成品率。适用于先进制程中的晶圆预清洁和剥离剂配方。
超净高纯双氧水
高纯度双氧水（H2O2），达到G4级或更高纯度标准，广泛用于半导体光刻工艺中的光刻胶去除和硅表面氧化步骤。其高纯特性可有效防止杂质引入（如微粒或有机残留），避免电路短路或可靠性问题。关键应用包括氧化剂清洗和后段封装净化，确保晶圆表面清洁度满足纳米级制程需求。
超净高纯硫酸
高纯度硫酸（H2SO4），达到G4级或更高纯度标准，主要用于半导体制造中的晶圆清洁和蚀刻工艺。通过去除金属离子杂质（如铁、铜）、光刻胶残留物，确保晶圆表面平整度和导电性，提升先进制程的良率。产品符合半导体湿电子化学品ISO 14644-1 Class 4标准，适用于8-12英寸晶圆生产线。
融资次数
5
员工数量
100-499人
专利数量
33
经营范围
危险化学品生产（按《安全生产许可证》和环保批文核定范围生产）；危险化学品经营（按《危险化学品经营许可证》核定范围经营）（不得储存）；并提供相关配套业务及售后服务；货物及技术的进出口业务。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）许可项目：食品用洗涤剂生产（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以审批结果为准）一般项目：电子专用材料制造；电子专用材料销售；电子专用材料研发；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；化工产品销售（不含许可类化工产品）；包装材料及制品销售；塑料制品销售；机械零件、零部件销售；新材料技术研发；机械设备销售；环境保护专用设备制造；电子专用设备销售；气体、液体分离及纯净设备销售；特种设备销售；管道运输设备销售；泵及真空设备销售；炼油、化工生产专用设备销售；半导体器件专用设备销售（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）
主营业务
生产及销售超净高纯湿电子化学品材料
联仕新材料（苏州）股份有限公司
股份有限公司(非上市)
￥1.7728亿
2017-05-24
王琴
0512-36828000
service@lsprc.cn
江苏省昆山市千灯镇汶浦中路66号