光刻胶去除剂
专用于清除光刻胶残留的化学品，如基于二甲亚砜或 N-甲基吡咯烷酮的配方。产品在低温下快速溶解残留光刻胶，不损伤底层材料如硅或多晶硅。适用于先进封装和MEMS器件制程。
蚀刻液系列
包括混合酸蚀刻液，如硫酸-过氧化氢混合物和硝酸-氢氟酸溶液，用于不同材料的蚀刻。例如，应用于氧化硅、氮化硅的去除，或金属刻蚀如铜和铝。产品特性包括高选择比、低颗粒生成和可回收设计，服务于航天光电子元件和汽车传感器制造。
电子级异丙醇
高纯度溶剂，用于半导体设备和硅片的精细清洗。纯度达到99.99%以上，确保无颗粒和有机残留，有效去除光刻残留物和蚀刻副产物。产品适用于在线清洗（CIP）和离线清洗流程，保障生产过程的无尘环境。
四甲基氢氧化铵显影液
用于光刻工艺后的显影步骤，专为溶解光刻胶的未曝光部分而设计。产品浓度范围为2.38%至12.5%，具有低金属离子含量（≤10ppb）和高均匀性，减少显影缺陷，提高芯片良品率。广泛应用于集成电路和显示面板制造。
光刻胶
一种感光性化学品，用于半导体光刻工艺中的微电路图案形成。通过紫外线曝光后发生化学变化，在硅片上创建高分辨率图案，适用于0.35微米至0.13微米制程技术。产品提供负型和正型两种类型，包括用于深紫外线（DUV）和极紫外线（EUV）的高级配方，确保线条清晰度和热稳定性。
高纯度电子级氢氟酸
一种用于半导体制造和微电子行业的蚀刻液，特别适用于硅片蚀刻过程。产品具有超高纯度（≥99.999%），可精确控制蚀刻速率和均匀性，减少杂质残留，广泛应用于芯片封装、太阳能电池等领域的表面处理。
融资次数
2
员工数量
50-99人
专利数量
82
经营范围
危险化学品生产（按《安全生产许可证》所列范围明细生产）；化学品销售（涉及危险化学品的按《危险化学品经营许可》核定许可范围经营）；自营和代理各类商品及技术的进出口业务（国家限定企业经营或禁止进出口的商品和技术除外）。用于传染病防治的消毒产品生产（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）
主营业务
研发、生产和销售精细化学品，并为电子、航天、光学、化工、医药、汽车等行业提供专业化学品解决方案
苏州博洋化学股份有限公司
股份有限公司(非上市、自然人投资或控股)
1999-10-25
王润杰
byhx@sz-by.com
苏州高新区浒墅关镇华桥路155号