镀膜技术
涵盖PECVD、LPCVD和ALD等薄膜沉积方法。核心技术基于创新的气体分布系统和等离子体增强机制，实现高质量氮化硅、氧化硅等多功能薄膜的均匀沉积。创新点在原子层级别的沉积精度（ALD膜层控制精度±0.1nm）、高密度等离子体源设计和低寄生气体杂质（杂质含量小于10ppb），确保薄膜附着性强、应力低，优化光伏电池的光吸收和半导体器件的介电性能。
热制程技术
包括扩散、氧化和退火等工艺的设备系统。该技术采用高精度温度控制系统和均匀的气流设计，实现硅片的高效掺杂、表面氧化和应力释放，创新点在于快速的升温/降温速率（最高可达到10°C/s）和温度均匀性（偏差小于±2°C），大幅降低热损伤和能耗，同时支持大尺寸硅片处理（如182mm和210mm），提升制程稳定性和电池效率。
融资次数
7
员工数量
1000-4999人
专利数量
465
经营范围
一般经营项目是：新能源、储能、光伏、半导体和航空航天所需先进材料、高端装备，以及配套自动化和配件的研发、制造，销售和租赁（不配备操作人员的机械设备租赁，不包括金融租赁活动）；分布式光伏发电开发和利用。与上述先进材料，高端装备，分布式发电系统和太阳能产品相关的技术咨询，技术开发，技术服务，技术转让以及合同能源管理；机电设备的销售、安装、维修；销售太阳能光伏产品及配件；国内贸易（不含专营、专卖、专控商品）；经营进出口业务。（以上各项涉及法律、行政法规、国务院决定禁止的项目除外，限制的项目须取得许可后方可经营）；劳务服务（不含劳务派遣）；租赁服务（不含许可类租赁服务）。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动），许可经营项目是：新能源相关产品、装备、材料、系统的生产。
主营业务
拉普拉斯是一家专注于为光伏高效电池片和半导体分立器件提供热制程、镀膜及配套自动化设备的整体解决方案供应商，致力于引领泛半导体领域高端装备的技术方向。
拉普拉斯新能源科技股份有限公司
其他股份有限公司(非上市)
￥3.6479亿
2016-05-09
林佳继
0755-28329695
ir@laplace-tech.cn
深圳市坪山区坑梓街道吉康路1号