高精度掩模版测量与检验技术
该技术采用先进的自动光学检测（AOI）系统和电子束测量设备（如CD-SEM），结合自主研发的图像处理软件和算法，实现掩模板关键尺寸（Critical Dimension）的无损、高精度测量。创新点包括利用AI辅助特征识别快速定位微缺陷（如针孔、污染）和异常图案，并通过大数据分析预测工艺偏差；同时，结合自研的3D轮廓成像技术，支持亚微米级的表面形貌和边缘粗糙度检测，确保掩模板的几何精度符合先进制程要求。
直写光刻制作系统技术
该技术基于从瑞典、日本、德国引进的先进激光直写光刻设备（如Laser Writer系统），直接在掩模板上生成高精度图案，避免传统接触式光刻的多次曝光过程。通过自主研发的控制软件优化光刻参数（如激光强度、步进精度），实现纳米级分辨率（最小线宽可达0.5微米以下）。创新点包括结合实时校准算法提高定位精度和重复性，并通过光刻工艺的智能控制减少环境干扰影响，显著提升掩模板的制造一致性和稳定性。
融资次数
2
员工数量
-
专利数量
68
经营范围
一般经营项目是：电子专用材料研发；电子专用材料制造；电子专用材料销售；集成电路芯片设计及服务；其他电子器件制造。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动），许可经营项目是：货物进出口；技术进出口。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以相关部门批准文件或许可证件为准）
主营业务
高精度掩模版（Photomask）的设计、研发、制作与服务，服务覆盖平板显示（FPD）、线路板、LED、IC、分立器件及精细光学元器件等领域。
深圳市龙图光罩股份有限公司
其他股份有限公司(非上市)
￥1.0013亿
2010-04-19
叶小龙
0755-29480730
ir@starmask.net
深圳市宝安区新桥街道象山社区新玉路北侧圣佐治科技工业园4#厂房101