金属溅射靶材
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产品详情
开发和生产用于物理气相沉积（PVD）技术的金属溅射靶材，用于半导体、显示技术、光学涂层等领域，具备良好的附着力和均匀性。
融资次数
4
员工数量
100-499人
专利数量
96
公司简介
武汉拓材科技有限公司是一家专注于研发、生产、销售高纯（超纯）金属/半导体材料的高新技术企业，并可以根据客户的具体要求定制开发新的高纯材料产品，为广大光电、半导体、航空航天和新能源行业提供稳定可靠的核心原材料。
经营范围
一般项目：电子专用材料研发；机械设备研发；电子专用材料制造；电子专用材料销售；新材料技术研发；高性能有色金属及合金材料销售；稀土功能材料销售；有色金属合金制造；有色金属压延加工；有色金属合金销售；专用化学产品制造（不含危险化学品）；专用化学产品销售（不含危险化学品）；半导体器件专用设备制造；半导体器件专用设备销售；资源再生利用技术研发；自然科学研究和试验发展；机械设备销售；仪器仪表销售（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）许可项目：货物进出口；技术进出口（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以相关部门批准文件或许可证件为准）
主营业务
武汉拓材科技有限公司专注于为光电、半导体、航空航天和新能源行业提供核心原材料，主要业务包括研发、生产和销售高纯（超纯）金属/半导体材料，并能依据客户需求定制开发新型高纯材料。
武汉拓材科技有限公司
其他有限责任公司
￥1,011万
2015-10-10
卢鹏荐
0711-3701152
tuocaikeji@126.com
鄂州葛店开发区光谷联合科技城C3-3栋