光学邻近校正软件（OPC软件）
这是宇微光学自主研发的核心产品之一，专用于集成电路光刻制造过程中的光学邻近校正（Optical Proximity Correction, OPC）。该软件通过精确的建模和仿真技术，优化光刻图案的转移过程，减少因光学衍射导致的图案失真和误差。具体功能包括光刻模型构建、图案布局分析、分辨率增强等，旨在提高芯片制造的精度和生产效率。应用场景涵盖半导体制造、光电子器件设计和先进封装领域，是中国在EDA（Electronic Design Automation）工具国产化中的一个重要突破。公开资料显示，该软件在2022年推出，并已服务于国内多家芯片制造企业，支持14纳米及以下工艺节点的研发和量产。
融资次数
1
员工数量
小于50人
专利数量
22
经营范围
计算机软件开发、技术服务；半导体、光电子产品、集成电路、计算机领域内的技术开发、技术咨询、技术服务、技术转让；芯片、光电子器件、光学系统、电磁波系统设计；网络工程技术开发；计算机信息系统集成；信息科技领域内的技术服务；物联网设备的批发兼零售；货物进出口、技术进出口（不含国家限制或禁止进出口的货物及技术）。（涉及许可经营项目，应取得相关部门许可后方可经营）
主营业务
光刻计算软件的研发
武汉宇微光学软件有限公司
有限责任公司(外商投资、非独资)
￥155万
2020-10-21
刘世元
han.yin@yuweioptica.com
武汉东湖新技术开发区东信路SBI创业街8栋12层B123号（自贸区武汉片区）（一址多照）