高压氢化物气相沉积 (HVPE) 技术
镓特半导体自主研发的HVPE（氢化物气相沉积）设备用于生长大尺寸氮化镓（GaN）衬底。该技术通过精确控制气体组分、温度梯度和生长速率，实现低缺陷密度（例如位错密度低于10^6 cm^{-2}）和高结晶质量衬底的生长。创新点包括优化热力学参数以实现更大衬底尺寸（如2英寸以上直径），同时结合自动化控制系统降低生产成本和工艺复杂性，突破传统HVPE方法的局限，如晶体开裂和尺寸限制。
融资次数
2
员工数量
小于50人
专利数量
82
经营范围
从事半导体、新材料科技领域内的技术开发、技术服务、技术咨询、技术转让，半导体材料、机械设备的销售，从事货物及技术的进出口业务。【依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动】
主营业务
提供高品质氮化镓衬底及其核心生长技术的研发、生产和供应服务
镓特半导体科技（上海）有限公司
有限责任公司(港澳台投资、非独资)
￥1.043亿
2015-04-27
李起鸣
021-60352009
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中国（上海）自由贸易试验区临港新片区新城路2号23幢N1128室