大尺寸高密度ITO溅射靶材生产技术
该核心技术基于先进的粉末冶金和热压烧结工艺，用于生产尺寸大、密度高的氧化铟锡（ITO）溅射靶材。创新点包括优化了热处理曲线（如分段控温技术）、高纯度原料处理技术以及加压烧结工艺，以实现大于99%的理论密度、减少晶界孔隙和裂纹风险。生产过程采用精密的尺寸控制方法（如等静压技术），确保大尺寸靶材（最高支持G10.5代基板需求）的几何均匀性，满足高溅射稳定性要求。
融资次数
1
员工数量
50-99人
专利数量
84
经营范围
电子元件及组件、合金、靶材、电解质材料的制造；新材料技术开发服务、咨询、交流服务、转让服务；电子元件及组件销售；合金、靶材、电解质材料的研发；自营和代理各类商品及技术的进出口，但国家限定公司经营或禁止进出口的商品和技术除外。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）
主营业务
以ITO靶材为主，结合铜、钼、钛等金属靶材的研发、生产和销售，为平板显示器行业提供关键镀膜新材料和高技术服务。
株洲火炬安泰新材料有限公司
其他有限责任公司
￥1.19亿
2017-04-21
唐安泰
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