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超快速恢复二极管技术
该技术利用优化的PN结材料和软恢复设计,实现纳秒级恢复时间(通常小于35ns)和极低的反向恢复电荷,大幅减少开关过程中的谐波失真和能量损失。创新点在于结合低正向压降特性(如0.75V at 3A),提升功率因数校正(PFC)效率,并确保在高频工作环境下维持高可靠性。
高性能功率MOSFET技术
虹冠电子的场效电晶体技术基于先进的沟槽式栅极设计和低Rds(on)特性,提供高电流承载能力(达数十安培)和优异的开关效率。创新点在于采用优化的芯片布局和封装技术(如DPAK或TO-220),显著降低热阻和开关损耗,适用于高频开关应用,并集成反向恢复保护功能提升耐用性。
高效同步整流电源管理技术
虹冠电子开发的高效能同步整流控制器技术,采用专利的频率折叠和负载调整算法,实现高达95%的转换效率和极低的待机功耗(通常低于100mW)。创新点在于结合自适应门极驱动和软启动机制,有效抑制电压过冲和电磁干扰,同时支持宽输入电压范围(如90V-265V AC),提高系统可靠性和稳定性。
融资次数
1
专利数量
20
经营范围
CC01080 电子零组件制造业 I501010 产品设计业 F601010 智慧财产权业 F401010 国际贸易业 (一)、研究、开发、生产、制造及销售下列产品: 1、功率积体电路(Power IC) 2、电源模组(Power Module) 3、场效电晶体(MOSFET) 4、快速回復二极体(Fast Recovery Diodes) (二)、提供前项产品之设计及技术谘询服务业务 (三)、兼营与前项业务相关之进出口贸易业务
主营业务
虹冠电子专注设计、制造和销售电源管理集成电路(如PWM控制器)、电源模块、场效晶体管及快速恢复二极管等半导体组件,为消费电子、计算机和工业领域客户提供高效的电源优化与节能解决方案。
公司全称
虹冠电子工业股份有限公司
成立时间
1970-01-01
地址
新竹市新竹科学工业园区园区二路11号5楼