电子级三氟化氮
电子级三氟化氮（Electronic Grade Nitrogen Trifluoride, NF3）是一种高纯度气体化合物，由氮和氟元素组成，常温下为无色、无味、不易燃的窒息性气体。其主要应用于半导体制造、平板显示器和太阳能电池板产业中的干法蚀刻和腔体清洗过程。作为蚀刻剂，它通过等离子体反应去除硅晶圆或玻璃基板上的二氧化硅、氮化硅等材料，形成微细电路图案；作为清洗气体，它能高效清除化学气相沉积（CVD）或物理气相沉积（PVD）设备腔体内的残留沉积物和杂质，防止颗粒污染。产品的纯度通常达到99.999%以上（即5N级），具有低金属杂质含量（如铜、铁等低于ppb级）、低湿度和低颗粒特性，以满足电子工业的严格标准，确保制造过程中的良率和设备使用寿命。电子级三氟化氮因其环保特性和高效率，已逐渐取代其他含氟气体（如全氟化碳），并在先进技术节点中广泛应用。