三氟甲磺酰氟 (TMSF)
三氟甲磺酰氟是一种新兴高纯含氟电子特气，用于半导体干法蚀刻和清洗应用，特别是作为氟化剂在特定工艺中替代传统气体。其低全球变暖潜能值（GWP）特性符合环保标准，飞源气体提供的产品纯度达99.99%以上，确保在先进制造过程中减少环境影响并提高工艺可持续性。
八氟环丁烷 (C4F8)
八氟环丁烷是一种高性能含氟蚀刻气体，主要用于先进的半导体制造，特别适合于低介电常数（low-k）材料和铜互连蚀刻工艺。其高选择性特性（纯度达99.999%）提供精确的蚀刻深度控制和边缘形貌管理，在14nm及以下节点技术中减少侧壁粗糙度和缺陷，支持高密度集成电路生产。
四氟化碳 (CF4)
四氟化碳是一种常用等离子蚀刻气体，广泛用于半导体、光电子和光伏行业的氧化硅、氮化硅蚀刻及清洗过程。其特性包括低温蚀刻能力和高反应效率，飞源气体提供的CF4纯度高于99.99%，确保在蚀刻系统中稳定运行，减少杂质引入并提升整体设备效率（OEE）。
六氟乙烷 (C2F6)
六氟乙烷是一种高稳定性含氟蚀刻气体，应用于集成电路和显示面板的制造中，特别适合硅基、氧化硅和氮化硅材料的等离子体蚀刻。其高纯度版本（99.99%以上）提供优异的蚀刻选择性和均匀性，支持先进节点的微细图案化工艺，并能降低蚀刻缺陷率。
三氟化氮 (NF3)
三氟化氮是一种高纯度含氟电子特气，主要用于半导体制造、液晶显示器（TFT-LCD）和太阳能电池行业的等离子体清洗过程，有效去除工艺腔体内的氧化物和金属残留物。其纯度可达99.999%（5N级），满足ISO 9001质量标准，确保在干法蚀刻应用中减少颗粒污染和提高产量。
融资次数
3
员工数量
100-499人
专利数量
47
经营范围
许可项目：危险化学品生产；危险化学品经营。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以相关部门批准文件或许可证件为准）一般项目：化工产品销售（不含许可类化工产品）；高性能有色金属及合金材料销售；货物进出口。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）
主营业务
高纯含氟电子特种气体的研发、生产与销售
南大光电（淄博）有限公司
有限责任公司(自然人投资或控股的法人独资)
2019-07-10
袁根林
cwb@sdfeiyuan.com
山东省淄博市高青县高城镇高青化工产业园飞源南路1号