产品&解决方案
ArF浸没式光刻胶是一种用于半导体光刻工艺的关键材料，基于193nm ArF激光光源设计，支持浸没式光刻技术以提高光刻分辨率和制程精度。该产品适用于先进节点的芯片制造（如7纳米及以下工艺），具有高感光度、良好的抗蚀刻性能和化学稳定性，能有效提升芯片的良率和生产效率。芯刻微专注于该领域的研发和量产，以满足半导体行业对高端光刻材料的需求。
融资次数
1
员工数量
小于50人
专利数量
56
公司简介
芯刻微是一家半导体微电子材料研发商，专注于ArF浸没式光刻胶研发，为用户提供半导体微电子材料、光刻材料等产品的生产销售服务。
经营范围
一般项目：技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；电子专用材料研发；电子专用材料制造【分支机构经营】；电子专用材料销售；机械零件、零部件销售；货物进出口；技术进出口。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）
主营业务
ArF浸没式光刻胶的研发、生产和销售
上海芯刻微材料技术有限责任公司
有限责任公司(外商投资企业法人独资)
￥1.5亿
2018-05-21
王溯
18321383607
minyan_ji@calmaterial.com
上海市化学工业区目华路201号1幢20层2015室