原子层刻蚀（ALE）设备
原磊纳米的原子层刻蚀设备针对纳米级材料去除需求而设计，替代了进口高端同类产品。该设备采用等离子体增强刻蚀技术，实现单原子层精确去除，刻蚀深度控制精度达亚纳米级。设备具有高刻蚀速率、低表面损伤和优异的重现性（工艺稳定性优于95%），支持多种刻蚀材料（如半导体硅、III-V族化合物和氧化物）。集成智能控制系统，用户可通过软件界面自定义刻蚀序列（包括气体流程、功率和时间参数），并提供远程诊断功能，便于维护。主要用于半导体制造、微纳加工和先进材料研究，填补了国内在该领域高端设备的空白。
原子层沉积（ALD）设备
原磊纳米提供自主研发的原子层沉积设备，专用于高精度材料薄膜生长。该设备采用先进的时序控制技术，实现原子级精确的材料沉积，支持多种前驱体气体（如有机金属化合物、前驱气体等）和基板（包括硅片、玻璃和金属基材）。系统沉积速率高、均匀性好（均匀性优于±1%），温度范围广泛（可在室温至400°C下工作），便于集成到研究实验室中。设备操作界面基于触摸屏设计，简洁直观，支持实时监控和工艺参数自动调节，维护方便，降低了实验操作门槛。应用于半导体器件、纳米材料研究和光电子学等领域，已在国内多所大学和研究机构中部署使用。
融资次数
2
员工数量
50-99人
专利数量
53
经营范围
半导体材料、光电子器件、传感器、电子元器件销售；半导体设备设计、开发、生产、销售；软件、物联网科技开发、技术转让、技术咨询、技术服务。技术进出口；货物进出口；进出口代理（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）
主营业务
主营业务是研发、生产和供应原子层沉积（ALD）和原子层刻蚀（ALE）设备及工艺，专注于为国内学术和研究机构提供高性能、易维护的解决方案，填补高端研发设备的市场空白。
南京原磊纳米材料有限公司
有限责任公司(自然人投资或控股)
￥4,141万
2018-09-04
郑锦
025-58277112
sales@aname-nj.com
南京市江北新区浦云路266号青云大厦B栋22层