产品&解决方案
在清洗、蚀刻、光刻去胶等关键工艺中发挥重要作用，包括清洗剂、蚀刻剂和光刻去胶剂。清洗剂用于清除晶圆表面的污染物，蚀刻剂提供选择性好、刻蚀速率快的蚀刻液，光刻去胶剂用于去除晶圆表面的光刻胶，为后续工艺步骤创造条件
针对硅、碳化硅等不同衬底材料及集成电路和先进封装行业设计的抛光液，具有优异的研磨效率和选择性。包括硅晶圆抛光液和碳化硅抛光液，前者适用于硅片制造过程中的化学机械抛光，后者专为碳化硅衬底设计，保持高抛光速率同时实现低表面缺陷和优良的面型控制
融资次数
3
员工数量
-
专利数量
9
公司简介
芯秦微专业从事半导体晶圆制造、半导体先进封装和新型显示等行业中功能性化学品的研发与生产。公司拥有多项核心专利技术，在产品开发、技术应用方面具有丰富的行业经验和较强的创新能力。公司主要产品包括化学机械抛光液（用于硅、碳化硅等衬底，集成电路和先进封装）和功能性电子化学品（用于清洗、蚀刻、光刻去胶产品）。目前，芯秦微客户已遍布硅片、碳化硅、分立器件、逻辑芯片、先进封装等多个行业。
经营范围
一般项目：技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；电子专用材料研发；电子专用材料制造；电子专用材料销售；化工产品销售（不含许可类化工产品）；货物进出口；技术进出口；进出口代理(除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动)。
主营业务
为半导体行业提供功能性化学品，主营业务涵盖了半导体晶圆制造、半导体先进封装和新型显示等领域的高品质化学品研发与生产
浙江芯秦微电子科技有限公司
其他有限责任公司
￥1,414万
2021-12-21
张建
0513-83266888
annawang@yixinmicro.com
浙江省金华市义乌市后宅街道净居东路201号1号楼1楼（自主申报）