NMP
NMP（N-甲基吡咯烷酮）是一种高效有机溶剂，广泛用于电子行业中的材料清洗、高分子剥离和溶液溶解。其在半导体晶圆清洗、锂电池浆料配制和光刻胶去除中发挥关键作用，具有低毒性、高溶解力和快速挥发的特性。应用场景包括半导体器件生产、光伏电池制造和新能源电池组件，能有效提升材料纯度和工艺可靠性。
稀释剂
稀释剂主要用于调节其他湿电子化学品的浓度（如剥离液或蚀刻液），确保工艺稳定性和一致性。通过精准的化学配方，稀释剂能够防止溶液析出或沉淀，适用于半导体、光伏和新能源领域的湿法清洗及蚀刻过程。产品设计侧重高兼容性、低挥发性和快速扩散，以维持产线高效运行。
蚀刻液
蚀刻液专用于在半导体晶圆蚀刻制程中去除特定材料层（如硅、金属或多层结构），以实现精密电路图案的形成。产品根据目标材料（例如铜、铝或多晶硅）有不同配方，具有选择性强、蚀刻速率可控和低腐蚀性的特点。应用覆盖集成电路制造、光伏电池片和显示面板蚀刻环节，支持电子元件的微型化和高性能化。
剥离液
剥离液主要用于在半导体制造和面板显示产业中移除光刻胶或其他高分子涂层，确保晶圆表面清洁。其配方针对不同制程（如光刻、蚀刻）进行了优化，可应用于高精度集成电路、薄膜晶体管液晶显示器（TFT-LCD）和有机发光二极管（OLED）生产。产品特点包括低残留、高溶解效率，能够减少工艺缺陷率，广泛应用于面板和半导体领域。
融资次数
2
员工数量
小于50人
专利数量
8
经营范围
一般项目：技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；环保咨询服务；新材料技术研发；资源循环利用服务技术咨询。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）许可项目：危险化学品经营。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以相关部门批准文件或许可证件为准）
主营业务
湿电子化学品生产、应用、研发和全生命周期管理的一站式服务。
福建中融科技有限公司
其他有限责任公司
￥1.2125亿
2015-11-27
林秋玉
lijia@zajt.cn
福建省福州市福清市江阴镇福建钰融科技有限公司办公楼