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自由曲面光学设计技术
结合非旋转对称曲面方程与点列图优化算法,开发出可校正离轴像差的光学架构。采用NURBS曲面建模和公差敏感度分析工具,实现大视场角(>120°)下的边缘解析力提升。创新点包括基于机器学习的像差补偿模型和衍射光学元件(DOE)混合设计,突破传统球面/非球面系统的光学极限。
多层纳米级光学镀膜技术
采用物理气相沉积(PVD)和离子辅助沉积(IAD)工艺,在光学表面构建数十层纳米级薄膜结构。通过材料选择和膜厚精准控制(误差<1nm),实现宽带抗反射特性及特定光谱调控功能。创新点包含主动等离子体监控系统和自适应膜系设计算法,在可见光至近红外波段达到平均透光率>99.5%。
非球面光学元件制造技术
基于精密模造工艺和玻璃非球面模压技术,实现了复杂曲面形状的高精度制造。通过计算机辅助设计和仿真优化,有效消除球面像差、畸变等光学缺陷,支持超薄镜头设计。创新点包括超高精度模具加工(精度达亚微米级)和热成型工艺控制,大幅提升成像分辨率与光学校正能力。
员工数量
5000-9999人
经营范围
CE01030 光学仪器制造业 CQ01010 模具制造业 F113030 精密仪器批发业 F401010 国际贸易业 F601010 智慧财产权业 I501010 产品设计业 CF01011 医疗器材制造业 ZZ99999 除许可业务外,得经营法令非禁止或限制之业务
公司全称
大立光電股份有限公司
注册资本
其它20亿
成立时间
1987-04-17
法定代表人
林恩舟
电话
00886-436002345
地址
臺中市南屯區精科路11號