合金溅射靶材
包括钛铝合金、铜铝合金等复合靶材产品，针对特定半导体应用需求定制，如太阳能电池或显示面板的薄膜沉积。产品通过精确控制合金比例和均匀性，提供多样化的功能性薄膜解决方案，增强耐磨性或改善光电性能。
高纯钨溅射靶材
由纯度99.995%以上的高纯钨原料生产，主要用于存储器芯片和逻辑器件的互连层或栓塞层。产品具备高硬度、低热膨胀系数和良好电导性，在高温沉积工艺中表现稳定，能延长设备使用寿命并提高芯片密度。
高纯钽溅射靶材
使用纯度99.995%以上的高纯钽材料制成，应用于高端半导体工艺中的高k金属栅极和铜互连阻挡层。产品具有高熔点、优良的抗腐蚀性和热稳定性，适合纳米级芯片制造，有助于降低功耗并提高器件可靠性。
高纯钛溅射靶材
由纯度99.995%以上的高纯钛材料制造，主要用于半导体制造中的粘附层和阻挡层，如MOSFET器件中的电极层。产品提供优异的粘附性和扩散阻挡能力，有效防止金属互溶，确保薄膜沉积的稳定性。
高纯铜溅射靶材
采用纯度99.999%以上的高纯铜原料生产，专为半导体集成电路中的互连层设计，用于形成高导电性的铜互连线。产品具有低杂质含量、高密度和均匀晶粒结构，可显著减少电阻损耗，提升芯片效率。
高纯铝溅射靶材
由纯度99.999%以上的高纯铝材料制成，主要用于半导体集成电路制造中的导电薄膜沉积过程，如互连层和电极。产品具有优异的导电性和抗腐蚀性能，适用于PVD（物理气相沉积）工艺，帮助提高芯片性能和良率。
细分行业
员工数量
500-999人
专利数量
1552
经营范围
一般项目：电子专用材料研发；电子专用材料制造；电子专用材料销售；电子元器件制造；电子元器件零售；电子专用设备制造；电子专用设备销售；有色金属压延加工；常用有色金属冶炼；有色金属铸造；金属材料制造；新材料技术研发；软件开发；信息系统集成服务；智能控制系统集成；物联网应用服务；物联网技术服务；人工智能基础资源与技术平台(除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动)。许可项目：检验检测服务；技术进出口；进出口代理；货物进出口(依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以审批结果为准)。
主营业务
半导体溅射靶材的研发、生产和销售
宁波江丰电子材料股份有限公司
其他股份有限公司(上市)
￥2.6542亿
2005-04-14
姚力军
info@kfmic.com
浙江省余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路