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捷佳伟创
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非晶硅玻璃基片清洗设备
该设备专为清洗玻璃基底上的非晶硅薄膜光伏组件设计,通过自动化流程去除油污、灰尘和残留物。确保薄膜层的附着力和平整度,适用于薄膜太阳能电池生产。
PECVD
该设备为等离子体增强化学气相沉积设备,用于在硅片表面沉积薄膜(如氮化硅)。通过在低压环境中激发等离子体实现沉积,作为抗反射层或表面钝化层,提升电池光电转换效率。
等离子体刻蚀机
该设备使用等离子体(如CF4或O2气体)进行干法蚀刻,精确移除硅片表面材料层(如氮化硅或氧化层)。适用于边缘隔离和表面清洁,具有低损伤和高均匀性特点。
扩散炉
该设备为高温炉,用于在硅片中扩散掺杂剂(如磷或硼),形成PN结以实现光生载流子分离。涉及精确温度控制(通常在800-1000°C范围),常见于晶体硅电池的发射区形成过程。
湿法刻蚀设备
该设备使用湿化学品(如酸或碱液)进行选择性蚀刻,移除硅片表面的特定材料层(如边缘绝缘层或掺杂区域)。适用于调节表面形貌和优化电池电性能。
多晶链式制绒设备
该设备专为多晶硅片优化,采用链式传输系统进行连续制绒处理。通过酸性溶液蚀刻,在硅片表面形成随机纹理结构,降低反射率并提高光吸收效率。
全自动单晶制绒酸洗综合设备
该设备结合制绒和酸洗功能,专为单晶硅片设计。制绒过程通过化学蚀刻在表面创建微观纹理以减少光反射;酸洗则移除表面氧化物和杂质。适用于高效光伏电池生产线。
全自动硅片清洗设备
该设备用于清洗切割后的硅片,通过超声波或化学浴去除锯痕、残留物和污染物。旨在改善硅片表面光洁度,为制绒、扩散等后续工艺做准备。
A股代码
300724.SZ
专利数量
409
经营范围
电子工业设备、光伏电池、光伏电池设备、动力电池设备、半导体设备、电子生产设备、光电设备的销售;刻蚀机、扩散炉、烧结炉、各类自动化生产设备、光电设备的租赁(不配备操作人员的机械设备租赁,不包括金融租赁活动)及分布式光伏发电开发和利用;与上述设备及分布式发电系统和太阳能技术及产品相关的技术咨询、技术开发、技术服务及技术转让以及合同能源管理;自有厂房租赁;销售太阳能光伏产品及配件;国内贸易(不含专营、专卖、专控商品);经营进出口业务。(以上项目法律、行政法规、国务院决定禁止的项目除外,限制的项目须取得许可后方可经营)。^刻蚀机、扩散炉、烧结炉、各类自动化生产设备、光电设备的生产、维修、改造;生产太阳能光伏产品及配件(国家有专项规定的除外)。
主营业务
专注于光伏设备及绿色能源产业专用设备的研发、制造与销售,主要覆盖光伏产业链中的硅料生产、硅片加工、晶体硅电池制造等环节,提供高效可靠的全套设备解决方案。
公司全称
深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司
公司类型
其他股份有限公司(上市)
注册资本
¥3.4818亿
成立时间
2007-06-18
法定代表人
左国军
电话
0755-81449696
邮箱
szjjwcfwb@chinasc.com.cn
地址
深圳市坪山区龙田街道竹坑社区金牛东路62号一层至六层