掩膜版缺陷检测与控制技术
该技术采用高灵敏度光学检测设备（如自动光学检测系统AOI）和AI算法驱动，实时扫描掩膜版表面，识别微粒、划痕和图形缺陷。创新点包括基于深度学习的缺陷分类系统，能自动区分可修复与报废缺陷，并整合闭环反馈机制优化生产工艺。
激光直写光刻技术
该技术利用紫外激光直接曝光光致抗蚀剂，实现快速图案生成，适用于中低节点掩模生产。创新点在于集成自动对焦和实时校准系统，提高了对准精度（误差<10nm）和吞吐效率，特别针对大批量生产需求开发了多光束并行处理技术。
高精度光掩模制造技术
该技术基于先进的电子束光刻工艺，结合精密蚀刻、清洗和检测环节，实现亚微米至纳米级的图形精度。关键创新点包括采用直写式电子束光刻（E-Beam Lithography）直接在石英或铬衬底上生成微细图案，结合光学临近校正（OPC）技术优化图形边缘，以应对复杂集成电路的微缩需求。
A股代码
688138.SH
员工数量
100-499人
专利数量
89
经营范围
一般经营项目是：，许可经营项目是：平板显示及集成电路等行业用掩膜版的技术研究开发、生产、销售；研究设计、生产经营新型显示器件（平板显示器及显示屏）；掩膜版相关材料的技术研究开发、生产、销售；掩膜版设计及相关软件的技术开发、销售；电子设备研究开发、生产、销售。
主营业务
清溢光电的主营业务是设计、生产和销售高精度掩膜版，服务于半导体集成电路和平板显示器制造业，通过整合研究、设计和制造资源，提供技术领先的掩膜版解决方案。
深圳清溢光电股份有限公司
股份有限公司（台港澳与境内合资，上市）
￥2.668亿
1997-08-25
唐英敏
0755-86352058
htt@supermask.com
深圳市南山区朗山二路北清溢光电大楼