湿电子化学品
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产品详情
包括高纯度酸类（如氢氟酸用于晶圆清洗和蚀刻）、碱类（如氢氧化铵用于表面处理）、溶剂（如异丙醇用于漂洗）以及专用清洗液。这些化学品应用于晶圆制造中的清洗、蚀刻和去光刻胶步骤，需符合SEMI标准以确保超低金属离子含量（如ppb级别），满足半导体良率要求。