光刻胶及辅材
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产品详情
光刻胶是用于光刻工艺的光致抗蚀剂，通过紫外线或电子束曝光后在晶圆表面形成微细图案，支持先进制程节点（如7nm以下）。辅材包括显影液、抗反射涂层（BARC）和边缘保护剂，用于增强分辨率、减少光散射和提高良率。产品涵盖G-line、I-line和KrF/ArF光刻胶类型。