电子特种气体
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产品详情
高纯度气体用于半导体晶圆加工的蚀刻、掺杂和沉积工艺。典型产品包括六氟化氙用于深紫外光刻的蚀刻剂,三氟化氮用于化学气相沉积过程的清洁剂,以及氨气用于氮化物层的形成。纯度要求极高(通常≥99.9999%),以避免污染并提升芯片性能。