磁存储记录功能靶材解决方案
基于先导薄膜的钌、镍铂、铬钴铂硼等材料，提供磁存储记录层溅射镀膜技术，用于高密度数据存储设备。解决方案包括材料纯化处理和高精度溅射工艺，确保存储层的高磁性能和抗腐蚀性。
薄膜太阳能电池材料解决方案
利用先导薄膜的铜铟镓硒（CIGS）、碲化镉（CdTe）等多元化合物靶材，提供高效的溅射镀膜技术，用于薄膜太阳能电池的制造。解决方案涵盖材料制备、溅射过程控制，支持高能量转换效率和长期稳定性。
ITO透明导电膜溅射镀膜解决方案
基于先导薄膜的高纯度氧化铟锡（ITO）靶材和蒸发材料，提供物理气相沉积（PVD）溅射技术，制作高透光率、低电阻的透明导电薄膜，适用于显示器行业。解决方案包括优化溅射工艺和设备适配，确保薄膜的均匀性和稳定性。
融资次数
6
员工数量
小于50人
专利数量
44
经营范围
平板及旋转氧化铟锡靶材（IT0靶材）、IT0蒸发材料及中间产品氧化铟、氢氧化铟、IT0粉末、IT0丸、铟、锡、硅、钨、铬、镍、钽、二氧化钛、硅铝、锡铟、锌铝、镍钨、镍钨钽、镍铬合金化合物靶材等大面积镀膜材料、铜铟镓硒、碲化镉、碲镉锌硒多元化合物等薄膜太阳能材料及靶材、钌、镍铂、铬钴铂硼等磁存储记录功能材料及靶材、钛、钼、铝、铜等大面积镀膜用金属材料及靶材、金、银、铂等贵金属蒸镀材料及靶材研发、生产、销售及回收。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）
主营业务
专注于高端功能性薄膜材料及靶材的研发、生产、销售和回收，服务于显示、光伏、磁存储、电子镀膜等高科技产业。
先导电子科技股份有限公司
股份有限公司(非上市)
￥4.779亿
2017-07-12
朱刘
18949832566
yuandong.huang@vitalchem.com
徐州高新技术产业开发区五环路北、同创路西，先导南路1号