产品&解决方案
苏州芯慧联提供专业的技术服务，涵盖设备安装、调试、维护和工艺优化。服务内容包括现场故障诊断、预防性保养计划、操作员培训和备件供应，针对客户的特定生产线需求定制解决方案。这帮助企业提升设备uptime和良率，降低运营成本，支持泛半导体制造企业的全生命周期管理。
此类产品包括真空腔体、泵组和控制单元等，为半导体设备提供关键支持系统。苏州芯慧联的零部件设计注重高真空度和密封性，例如真空阀门、气压计和泄漏检测模块，确保设备在刻蚀或沉积工艺中的稳定运行。系统单元可与主机设备无缝集成，实现压力调节和气体流量控制，用于制造设备的维护和升级，提高整体系统的可靠性和效率。
湿法清洗设备专注于晶圆的清洗和蚀刻处理，采用湿化学方法去除表面污染物、光刻胶残留或天然氧化物。包括旋转喷淋清洗槽、化学浴槽和去离子水冲洗单元，支持SC1、SC2等标准清洗液配置。设备强调防颗粒设计和腐蚀控制，适用于晶圆的前后道清洗（如前置清洗或后蚀刻清洗），提升表面清洁度和粗糙度，确保芯片制造的洁净度要求。
化学气相沉积（CVD）设备主要用于在晶圆表面沉积薄膜材料，如氧化硅、氮化硅和多晶硅层。苏州芯慧联的型号支持等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术，提供均匀的薄膜沉积控制、高纯气路系统和温控机制。设备针对高k介电层或金属层沉积设计，兼容8英寸/12英寸晶圆，通过工艺参数优化（如气体流量和压力），提升薄膜附着力和厚度一致性，用于半导体器件的前道制造环节。
该设备利用电感耦合等离子体（ICP）技术，实现干法刻蚀工艺，用于在晶圆上精确去除材料层。支持多种半导体材料（如硅、二氧化硅、氮化硅）的刻蚀应用，集成真空腔体、RF功率源和在线监测模块，确保刻蚀速率和选择比优化。设备适用于前道工序中的蚀刻步骤，提高刻蚀均匀性和效率，减少颗粒污染，广泛应用于存储器和逻辑芯片制造。
苏州芯慧联的涂胶显影设备（Track Equipment）主要用于半导体制造的光刻工艺阶段。它能够在晶圆上精准涂布光刻胶，并进行显影处理，支持自动化操作和全流程集成，提高涂胶厚度均匀性和显影效果。设备兼容8英寸和12英寸晶圆生产线，适用于先进制程（如90nm至28nm），降低缺陷率并优化良率。核心功能包括高精度旋转控制、温控单元和实时监控系统，广泛应用于芯片前道制造环节。
融资次数
4
员工数量
100-499人
专利数量
43
公司简介
苏州芯慧联是一家专注于半导体领域专用设备设计及技术研发的企业，主要面向泛半导体领域的生产制造企业，为其提供配套的工艺设备、零部件、系统单元以及技术服务支持。
经营范围
半导体、平板显示科技领域内的技术开发、技术服务、技术转让、技术咨询;半导体静电卡盘生产,静电卡盘整机设备及零配件组装;设备安装、维修、维护、清洗、翻新;金属材料、通讯器材、仪器仪表、机械设备、五金交电、电子产品、电子元器件、化工产品（不含危险化学品）销售; 压力管道工程、机电安装工程的设计、施工；从事货物及技术进出口业务,但国家限定公司经营或禁止进出口的商品及技术除外。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动）许可项目：人力资源服务（不含职业中介活动、劳务派遣服务）（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以审批结果为准）
主营业务
面向半导体制造企业，提供高端专用设备研发制造、核心零部件供应及设备全流程技术支持服务。
苏州芯慧联半导体科技有限公司
有限责任公司
￥8,000万
2019-01-08
刘红军
0512-81569088
yuanyuan.gu@wisdomst.com
常熟高新技术产业开发区金门路2号2幢