产品&解决方案
有机溶剂基或水基剥离液，用于高效去除光刻后残胶及聚合物残留，兼容I-line/KrF/ArF光刻胶体系，具有低金属腐蚀性与高材料兼容性。
氧化硅/铜/钽等专用CMP研磨液，通过纳米级磨料与化学试剂协同作用，实现晶圆表面超精密平坦化，关键指标包括去除速率、平坦化效率及缺陷控制（如碟陷≤5Å）。
定制化配方刻蚀液（如BOE、磷酸基等），针对硅、金属或介质层进行选择性蚀刻，具备精确的蚀刻速率控制和优异的选择比，适用于3D NAND/FinFET等先进结构制造。
高纯氨水（NH₃·H₂O）溶液，应用于TFT-LCD/OLED面板光刻显影工艺及半导体清洗，杂质含量低于PPB级，确保显影精度并减少缺陷发生率。
超高纯度过氧化氢（H₂O₂）溶液，纯度达PPT级别，用于半导体晶圆清洗、芯片制造中的氧化与蚀刻步骤，可有效去除金属离子和颗粒杂质，满足先进制程要求。
融资次数
2
员工数量
小于50人
专利数量
11
经营范围
一般项目：新材料技术研发；专用化学产品制造（不含危险化学品）；基础化学原料制造（不含危险化学品等许可类化学品的制造）；非居住房地产租赁；机械设备租赁；特种设备出租；技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广；货物进出口；技术进出口。（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）许可项目：危险化学品经营。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以相关部门批准文件或许可证件为准）
主营业务
高性能复合材料和新型环保材料的研发、生产和销售
福建福豆新材料有限公司
有限责任公司(自然人投资或控股)
￥4,243万
2020-12-10
马建修
18522961133
zhongmeilan@fudoumat.com
福建省邵武市吴家塘镇金沙大道19号